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日产化学
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日产化学
30.
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Organosilicasol™MA-ST-MS
日产化学
胶体二氧化硅分散在甲醇。用于改善划痕,芯片和mar阻力颜料、清漆和油墨。提供热量和耐气候性和巨大的表面积。提供了很好的…
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Organosilicasol™MEK-ST
日产化学
硅胶在甲乙酮分散。用于改善划痕,芯片和mar阻力颜料、清漆和油墨。提供热量和耐气候性和巨大的表面积。提供了…
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Organosilicasol™EG-ST
日产化学
硅胶在乙二醇分散。用于改善划痕,芯片和mar阻力颜料、清漆和油墨。提供热量和耐气候性和巨大的表面积。提供非常…
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Organosilicasol™IPA-ST
日产化学
胶体二氧化硅分散在异丙醇。用于改善划痕,芯片和mar阻力颜料、清漆和油墨。提供热量和耐气候性和巨大的表面积。提供了很好的…
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Organosilicasol™IPA-ST-MS
日产化学
胶体二氧化硅分散在异丙醇。用于改善划痕,芯片和mar阻力颜料、清漆和油墨。提供热量和耐气候性和巨大的表面积。提供了很好的…
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